换一批奥斯瓦尔德熟化机制对Ag/TiO2复合薄膜中银离子释放速率的影响
Effect of Oswald Ripening on Ag-Ion Release Rate of Ag/TiO2 Composite Coatings
摘要采用反应磁控共溅射法制备Ag/TiO2复合薄膜.利用扫描电镜、透射电镜、X射线光电能谱和原子吸收光谱分析比较了致密/多孔两种Ag/TiO2复合薄膜表面形貌和银离子释放速率.结果表明:形貌致密的Ag/TiO2复合薄膜表面展现出明显的Ag纳米颗粒的奥斯瓦尔德熟化过程,银离子释放速率极为缓慢(7天后有6.8%的银离子释放);而多孔复合薄膜表面没有呈现出明显的奥斯瓦尔德熟化过程,银离子释放速率较为迅速(一周内有38%的银离子释放).
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关键词
反应磁控共溅射Ag/TiO2复合薄膜奥斯瓦尔德熟化银离子释放速率Reactive magnetron co-sputteringAg/TiO2 composite thin filmOstwald ripeningSilver ion re-lease rate
分类号
TB333
栏目名称
DOI
10.13922/j.cnki.cjovst.2017.12.06
发布时间
2018-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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