换一批超高产水稻组合‘培矮64S/E32’的耐光氧化特性及其机理
The Characters and Mechanism of Photooxidation Tolerance in Leaves of Peiai64S/E32,a Super High-yielding Hybrid Rice (Oryza sativa L.)
摘要甲基紫精(MV)介导的光氧化导致两个水稻品种‘汕优63'(目前我国大面积推广的杂交水稻)和‘培矮64S/E32'(新培育的超高产杂交水稻)细胞电解质渗漏率都增加,前者增加的量大于后者,显示‘培矮64S/E32'的细胞膜系统受光氧化的伤害小.光氧化条件下,‘培矮64S/E32'仍能维持较高的光合放氧能力(Amax、Φi)、PSⅡ活性(Fv/Fm、ΦPSⅡ)和叶绿素荧光猝灭系数(qP、NPQ),而且光氧化引起‘培矮64S/E32'这些参数的下降幅度也小.另外,光氧化导致了两个水稻品种抗氧化酶SOD和APX活性增加,‘培矮64S/E32'增加的幅度约为‘汕优63'的3倍.结果表明超高产水稻具有更强的耐光氧化能力.
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分类号
S511
栏目名称
DOI
10.3969/j.issn.1674-3466.2003.05.006
发布时间
2003-11-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
基金项目
国家重点基础研究发展计划（973计划）（G1998010100）
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