大豆初生根凯氏带对铜离子的通透性
Permeability of Endodermal Casparian Bands for Cu~(2+) in Primary Roots of Soybean (Glycine max)
摘要采用在根内生成有色铜沉淀的方法研究大豆(Glycine max)初生根凯氏带对铜离子的通透性.用真空泵抽取浓度为200 μmo1·L~(-1)的CuSO_4溶液进入根中,然后在重力作用下从根基部灌注400 μmol·L~(-1)的K_4[Fe(CN)_6]溶液,两种物质在根内相遇即可产生棕色的Cu_2[Fe(CN)_6]沉淀,根据沉淀的位置来确定铜离子所经过的途径.结果表明:Cu~(2+)可以穿过内皮层凯氏带.在木质部导管壁以及凯氏带至木质部之间的细胞壁处产生棕色沉淀,侧根发生的部位也产生了大量的沉淀:当抽取K_4[Fe(CN)_6]溶液后再灌注CuSO_4溶液,发现Cu~(2+)仍然可以穿过凯氏带,并在凯氏带外侧以及外皮层细胞的细胞壁处产生棕色沉淀.研究结果证明凯氏带并不是一个可以完全阻止离子进出的完美屏障.
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