摘要本发明提供了一种复合涂层及其制备方法和应用,属于抗菌材料技术领域。本发明提供的复合涂层,包括自下至上依次层叠设置的N‑Cl型卤胺涂层、铜基纳米酶涂层和氧化铈涂层。本发明提供的复合涂层中氧化铈涂层中氧化铈颗粒在中性环境中通过产生血小板衍生生长因子‑BB促进骨髓间充质干细胞的成骨分化,并长期阻挡内部的铜基纳米酶涂层中CuO NPs与细胞接触,在大量厌氧菌黏附种植体后,局部形成的低酸微环境破坏氧化铈,释放的CuO NPs可以产生ROS(活性氧)发挥杀菌作用,同时N‑Cl型卤胺涂层中N‑Cl的协同释放可以加强低浓度下CuO NPs的氧化活性,从而在不影响种植体骨结合的前提下使涂层具备优异的抗菌性能。
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专利类型
发明专利
申请/专利号
CN202411149304.4
申请日期
2024-08-20
公开/公告号
CN119015512A
公开/公告日
2024-11-26
主分类号
A61L27/40(2006.01) A A61 A61L A61L27
分类号
A61L27/40(2006.01) A61L27/30(2006.01) A61L27/22(2006.01) A61L27/54(2006.01) A61L27/40 A61L27/30 A61L27/22 A61L27/54
主申请人地址
030000 山西省太原市新建南路63号
专利代理机构
北京高沃律师事务所
代理人
王雪
国别省市代码
山西;14
主权项:
1.一种复合涂层,包括自下至上依次层叠设置的N-Cl型卤胺涂层、铜基纳米酶涂层和氧化铈涂层。 2.根据权利要求1所述的复合涂层,其特征在于,所述N-Cl型卤胺涂层的厚度为1~5nm。 3.根据权利要求1所述的复合涂层,其特征在于,所述铜基纳米酶涂层的厚度为3~200nm。 4.根据权利要求1所述的复合涂层,其特征在于,所述氧化铈涂层的厚度为5~50nm。 5.权利要求1~4任意一项所述复合涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: (1)在基体表面制备N-Cl型卤胺涂层; (2)在所述步骤(1)得到的N-Cl型卤胺涂层的上表面采用原子层沉积法制备铜基纳米酶涂层; (3)在所述步骤(2)得到的铜基纳米酶涂层的上表面采用原子层沉积法制备氧化铈涂层,得到复合涂层。 6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)和步骤(3)中的原子层沉积法独立地在原子层沉积设备中进行。 7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述原子层沉积法制备铜基纳米酶涂层的操作包括如下步骤: 1)在原子层沉积设备中通入铜前驱体,然后进行第一表面化学吸附反应,得到吸附有铜前驱体的N-Cl型卤胺涂层; 2)在原子层沉积设备中通入氧前驱体,然后进行第一氧化反应,得到单层铜基纳米酶涂层; 3)重复所述步骤1)和2)的操作,得到铜基纳米酶涂层。 8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中通入铜前驱体的时间为1~5s。 9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述原子层沉积法制备氧化铈涂层的操作包括如下步骤: I、在原子层沉积设备中通入铈前驱体,然后进行第二表面化学吸附反应,得到吸附有铈前驱体的铜基纳米酶涂层; II、在原子层沉积设备中通入氧前驱体,然后进行第二化学反应,得到单层氧化铈涂层; III、重复所述步骤I和II的操作,得到氧化铈涂层。 10.权利要求1~4任意一项所述复合涂层或者权利要求5~9任意一项所述制备方法制备得到的复合涂层在种植体中的应用。