换一批- 最近
- 已收藏
- 排序
- 筛选
- 3
- 2
- 1
- 1
- 1
- 1
- 1
- 中文期刊
- 刊名
- 作者
- 作者单位
- 收录源
- 栏目名称
- 语种
- 主题词
- 外文期刊
- 文献类型
- 刊名
- 作者
- 主题词
- 收录源
- 语种
- 学位论文
- 授予学位
- 授予单位
- 会议论文
- 主办单位
- 专 利
- 专利分类
- 专利类型
- 国家/组织
- 法律状态
- 申请/专利权人
- 发明/设计人
- 成 果
- 鉴定年份
- 学科分类
- 地域
- 完成单位
- 标 准
- 强制性标准
- 中标分类
- 标准类型
- 标准状态
- 来源数据库
- 法 规
- 法规分类
- 内容分类
- 效力级别
- 时效性
【中文期刊】 倪青山 王正志 等 《生物信息学》 2004年2卷3期 27-30页ISTIC
【摘要】 掩模板在高密度基因芯片的探针合成过程中起着重要的作用,由于其制造工艺复杂、造价较高,因此在不改变探针合成结果的条件下,需要尽可能的减少基因芯片探针合成过程中所用的掩模板数量.提出了一种新的预测搜索算法,对掩模板进行了优化设计,对设计结果的测...
- 概要：
- 方法：
- 结论：
【中文期刊】 伊福廷 缪鹏 等 《半导体学报》 2004年25卷1期 26-29页
【摘要】 提出了一种解决大高宽比SU8结构的新方法.该方法是将SU8胶涂在一块掩模上,紫外光从掩模的背面照射,这样SU8胶的曝光将从底部开始,不需要进行过曝光来保证底部胶的曝光剂量,从而很容易控制曝光剂量和SU8胶结构的内应力.实验结果表明,该方法能...
- 概要：
- 方法：
- 结论：
【成果】 1600100155 江苏 TN305.7 应用技术 电子器件制造 2015年
【成果简介】 主要技术内容：该项目是微纳制造方法、技术和装备的原始创新。学科：电子、通信与自动控制技术。微纳图形化直写技术是从设计数据到原始微纳结构获得(Data-＞Structure)的必要手段，中国微纳装备依赖进口，性能和数量不足，尤其是“器件级”设...
【成果】 1500080586 北京 TN405.7 应用技术 电子器件制造 2013年
【成果简介】 该发明属信息领域。掩模作为集成电路和微纳制造的“模具”和基准，是其发展和性能提升的基础和核心器件，对集成电路和相关产业发展有重要战略意义。该发明实施前，中国的中高端掩摸制造一直被国外企业垄断，阻碍了集成电路和相关产业的发展，也严重影响中国的...
【成果】 0400290035 北京 TN405.7 TN305.7 应用技术 电子器件制造 2001年
【成果简介】 研究内容：主要开展的工作有：LIGA技术的掩模制造，同步辐射光源的性能研究，X光深度光刻技术，SU8光刻技术，电铸技术，浇铸技术，以及微电机，电火花电极，微条气体室探测器，X光波带片等应用方面的工作。解决的问题：解决了掩模制造中的厚胶结构的...
加载中...
