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【中文期刊】 李炎 刘玉岭 等 《电镀与精饰》 2014年36卷7期 37-41页
【摘要】 对d为300 mm blanket铜膜进行了低压低浓度化学机械抛光实验,分析了抛光工艺参数和抛光液组分对铜膜去除速率及其非均匀性的影响.通过实验表明,当抛光压力为13.780kPa,抛光液流量为175 mL/min,抛光机转速为65 r/m...
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【中文期刊】 杨增涛 王华 等 《传感器与微系统》 2013年32卷4期 116-118页
【摘要】 为克服平面微机械结构无法释放残余应力、刚度小、跨度小,平面牺牲层工艺成拱出现非光滑台阶状边缘而造成器件失效或能量泄漏的缺点,改进现有成拱工艺在器件尺寸、结构稳定性及可靠性等方面的不足,提出一种用选择性化学机械抛光技术制作微拱形结构的方法.该...
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【中文期刊】 刘效岩 刘玉岭 等 《功能材料》 2010年41卷11期 1903-1906页
【摘要】 纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识.但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提.纳米SiO...
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【中文期刊】 黄杏利 傅增祥 等 《西北工业大学学报》 2007年25卷4期 508-511页
【摘要】 在集成电路(IC)行业中,化学机械抛光(CMP)是获得全局平坦化的技术.随着晶圆直径的增加,在CMP加工过程中,晶圆边缘容易出现"过磨(over-grinding)"现象,降低了平坦度和晶圆利用率.在晶圆外部施加保持环可以把晶圆中心处和边缘...
【关键词】 化学机械抛光(CMP)；晶圆；保持环；
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【中文期刊】 林家婷 许亮 等 《临床口腔医学杂志》 2015年31卷11期 645-648页ISTIC
【摘要】 目的:比较机械抛光、化学抛光和电解抛光对钴铬钼合金试件表面粗糙度的影响.方法:制作钴铬钼合金试件60个,随机分为机械抛光组、化学抛光组和电解抛光组,对其表面进行抛光处理后,在不同氟浓度溶液里浸泡24h,记录试件抛光后的减重率(wt％),测量...
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【中文期刊】 于俊光 李天侠 等 《临床口腔医学杂志》 2010年26卷9期 533-535页ISTIC
【摘要】 目的:评价不同抛光方法对纯钛铸件表面耐腐蚀性的影响.方法:制作纯钛试件30个,随机分为机械抛光组、化学抛光组和电解抛光组对其表面进行抛光处理.然后在人工唾液中,运用电化学方法测量试件的自然腐蚀电位(Ecorr)、极化电阻(Rp)、腐蚀电流密...
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【中文期刊】 于俊光 李天侠 等 《中国实用口腔科杂志》 2010年3卷2期 113-115页ISTICCSCDCA
【摘要】 目的 比较机械抛光、化学抛光和电解抛光对纯钛铸件表面耐腐蚀性的影响.方法 2008年11月至2009年3月于哈尔滨工业大学理学院实验室将30个钛铸件随机分为机械抛光组、化学抛光组和电解抛光组,每组10个.机械抛光组:在金相试样抛光机上抛光;...
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【中文期刊】 段晓娜 孙羊羊 等 《硅酸盐通报》 2014年33卷4期 836-840页
【摘要】 硅溶胶具有大的比表面积,高的稳定性等优良的性能被广泛应用在涂料、化学机械抛光、精密铸造等工业领域.随着工业的发展,硅溶胶应用范围被不断扩大,较大粒径,更高稳定性,单一分散的溶胶被大量研究.金属改性、有机基团改性的溶胶有特殊的性能以适应不同的...
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【学位论文】 作者：曾东 导师：张连云 天津医科大学 口腔医学 口腔修复学（硕士） 2002年
【摘要】 实验目的：研制口腔铸钛修复体的化学抛光液和对纯钛铸件的化学抛光进行实验及临床应用研究,旨在以化学抛光方法代替手工研磨抛光,解决口腔铸钛修复体研磨抛光困难,抛光效果差,污染严重的现状.结论：1、适用于口腔铸钛修复体的化学抛光液的成份和配比为：...
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【中文期刊】 李艳华 何东 等 《实用口腔医学杂志》 2019年35卷1期 32-36页ISTICPKUCSCDCA
【摘要】 目的:采用不同化学处理方法对PEEK材料进行表面改性, 提高PEEK材料的生物性能.方法:根据不同的化学处理方法分为5组 (n=9):①空白对照组 (PEEK):PEEK材料表面机械抛光, 不进行酸处理;②浓硫酸处理5 min组 (S1-P...
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