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【中文期刊】 李诗伦 刘涛 等 《光谱学与光谱分析》 2023年43卷7期 2037-2042页
【摘要】 周期性纳米结构阵列因其独特的光学效应在新型传感技术领域具有巨大的应用潜力,引起人们极大的兴趣.其光学特性依赖于形貌和结构参数,一般可通过调整这些参数来调控其光学性能,而通过外加磁场调节其光学性能鲜有报道.通过气液自组装法制备胶体晶体模板,采...
【关键词】 磁性Co纳米球阵列膜；等离子体刻蚀技术；磁控溅射技术；
- 概要：
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【中文期刊】 李琦 《实验室检测》 2025年3卷17期 83-85页
【摘要】 目的 针对半导体制造中碳膜残留导致的检测结果偏差、清理质量不达标等问题,从检验检测实际需求出发,优化RPS Clean技术中O2 和NF3 的气体配比,建立碳膜清理效果的量化检测标准,为工艺稳定性检验、清理质量评估及检测流程优化提供技术支撑...
- 概要：
- 方法：
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【中文期刊】 皮晓强 王升高 等 《武汉工程大学学报》 2016年38卷1期 52-55页
【摘要】 利用软光刻技术,在聚二甲基硅氧烷(PDMS)上制备了微流通道,通过光刻一湿法刻蚀和磁控溅射镀膜技术制备出了集成有金属膜电极的玻璃基片,将二者经过等离子体处理,进行键合后获得了集成有电化学检测器的PDMS-玻璃微流控芯片.以市售蜂蜜为待测物质...
- 概要：
- 方法：
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【中文期刊】 叶芳 苑伟政 等 《纳米技术与精密工程》 2009年7卷6期 553-556页
【摘要】 研究了一种将胶原Ⅰ型蛋白通过微接触压印技术图型化于玻璃基底表面的方法.采用标准光刻工艺制备印章母版,并运用反应离子刻蚀设备对印章表面进行氧等离子体处理,以期改善印章表面亲水性能.将涂敷了胶原Ⅰ型蛋白,并经返潮处理的印章以50 g/cm~2大...
- 概要：
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【成果】 0100980001 北京 TN305.7 应用技术 电子和电工机械专用设备制造 2001年
【成果简介】 高密度等离子刻蚀技术是深亚微米级集成电路生产中的关键技术之一，近年来微机械、微光学、光电子等行业的飞速发展急需刻蚀技术和设备升级换代，干法刻蚀尤其是高密度等离子体刻蚀是国外竞相发展的重点，但国外设备售价昂贵，国内很多单位根本无力购买。ICP...
- 概要：
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【中文期刊】 张燕搏 《中华实用诊断与治疗杂志》 2012年26卷1期 1-3页ISTIC
【摘要】 低温等离子体辐照是生物医用材料表面改性的重要方法,其通过刻蚀、活化、接枝等方法增加生物材料的组织相容性,为组织工程化血管的构建提供了新途径.
- 概要：
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