- 最近
- 已收藏
- 排序
- 筛选
- 65
- 5
- 1
- 1
- 23
- 8
- 7
- 4
- 4
- 中文期刊
- 刊名
- 作者
- 作者单位
- 收录源
- 栏目名称
- 语种
- 主题词
- 外文期刊
- 文献类型
- 刊名
- 作者
- 主题词
- 收录源
- 语种
- 学位论文
- 授予学位
- 授予单位
- 会议论文
- 主办单位
- 专 利
- 专利分类
- 专利类型
- 国家/组织
- 法律状态
- 申请/专利权人
- 发明/设计人
- 成 果
- 鉴定年份
- 学科分类
- 地域
- 完成单位
- 标 准
- 强制性标准
- 中标分类
- 标准类型
- 标准状态
- 来源数据库
- 法 规
- 法规分类
- 内容分类
- 效力级别
- 时效性
【中文期刊】 林家婷 许亮 等 《临床口腔医学杂志》 2015年31卷11期 645-648页 ISTIC
【摘要】 目的:比较机械抛光、化学抛光和电解抛光对钴铬钼合金试件表面粗糙度的影响.方法:制作钴铬钼合金试件60个,随机分为机械抛光组、化学抛光组和电解抛光组,对其表面进行抛光处理后,在不同氟浓度溶液里浸泡24h,记录试件抛光后的减重率(wt%),测量...
【中文期刊】 张军伟 周超 等 《电镀与涂饰》 2018年37卷11期 514-518页
【摘要】 综述了化学抛光机理及化学抛光在金属医疗器械表面改性中的应用.目前对化学抛光的研究主要集中在抛光工艺的优化及抛光液体系的建立.与机械抛光、电化学抛光等其他抛光方法联合应用是克服现有工艺缺陷的主要途径.
【中文期刊】 李炎 刘玉岭 等 《电镀与精饰》 2014年36卷7期 37-41页
【摘要】 对d为300 mm blanket铜膜进行了低压低浓度化学机械抛光实验,分析了抛光工艺参数和抛光液组分对铜膜去除速率及其非均匀性的影响.通过实验表明,当抛光压力为13.780kPa,抛光液流量为175 mL/min,抛光机转速为65 r/m...
【中文期刊】 杨玉华 张倩 等 《西部中医药》 2016年29卷10期 36-39页 ISTIC
【摘要】 目的::对浓缩当归丸不同配比的打光包衣材料及工艺进行探讨,研究不同打光包衣材料对浓缩当归丸质量的影响,并筛选符合欧盟传统草药药品注册标准要求的打光辅料。方法:通过选用不同打光辅料及配比,同时对浓缩当归丸实施6种打光包衣工艺操作,以打光包衣后...
【中文期刊】 刘效岩 刘玉岭 等 《功能材料》 2010年41卷11期 1903-1906页
【摘要】 纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识.但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提.纳米SiO...
【外文期刊】 Ke,Zhai ; Qing,He ; 等 《Ultrasonics》 2017年80卷 9-14页 SCIMEDLINE
【关键词】 Chemical mechanical polishing; Matching layer; Megasonic vibration;
【外文期刊】 Wen,Chen ; Meixin,Feng ; 等 《Nanomaterials (Basel, Switzerland)》 2021年12卷1期
【关键词】 GaN-on-Si; chemical-mechanical polishing; resonant-cavity light-emitting diode;
【外文期刊】 Ziwei,He ; Jianwei,Zhou ; 等 《Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》 2024年20卷26期 e2309965页 SCIMEDLINECA
【关键词】 ammonium nitrilotriacetate; barrier layer; chelating agent;
【外文期刊】 Wen,Peng ; Cai,Cheng ; 等 《3D printing and additive manufacturing》 2024年11卷5期 1746-1757页
【关键词】 Ti6Al4V; chemical polishing; porous scaffolds;
【外文期刊】 Yan,Mei ; Wenjuan,Chen ; 等 《Materials (Basel, Switzerland)》 2023年16卷9期 SCIMEDLINE
【关键词】 X-ray diffraction; abrasive; ceria;