换一批
换一批- 最近
- 已收藏
- 排序
- 筛选
- 15
- 10
- 3
- 2
- 2
- 1
- 中文期刊
- 刊名
- 作者
- 作者单位
- 收录源
- 栏目名称
- 语种
- 主题词
- 外文期刊
- 文献类型
- 刊名
- 作者
- 主题词
- 收录源
- 语种
- 学位论文
- 授予学位
- 授予单位
- 会议论文
- 主办单位
- 专 利
- 专利分类
- 专利类型
- 国家/组织
- 法律状态
- 申请/专利权人
- 发明/设计人
- 成 果
- 鉴定年份
- 学科分类
- 地域
- 完成单位
- 标 准
- 强制性标准
- 中标分类
- 标准类型
- 标准状态
- 来源数据库
- 法 规
- 法规分类
- 内容分类
- 效力级别
- 时效性
【外文期刊】 Mohammad S M,Saifullah ; Anil Kumar,Rajak ; 等 《ACS nano》 2024年18卷35期 24076-24094页 SCIMEDLINECA
【关键词】 electron beam lithography; extreme ultraviolet lithography; low-molecular-mass resists;
【外文期刊】 Ryan T,Frederick ; J Trey,Diulus ; 等 《ACS applied materials & interfaces》 2019年11卷4期 4514-4522页 SCIMEDLINECA
【关键词】 X-ray photoelectron spectroscopy; electron stimulated desorption; extreme ultraviolet lithography;
【外文期刊】 Quentin,Evrard ; Najmeh,Sadegh ; 等 《ACS applied materials & interfaces》 2024年16卷32期 42947-42956页 SCIMEDLINECA
【关键词】 Inorganic?organic hybrid photoresist; extreme ultraviolet lithography; metal-based photoresist;
【外文期刊】 Jerome B M,Knappett ; Blair,Haydon ; 等 《Journal of synchrotron radiation》 2024年31卷Pt 3期 485-492页 SCIMEDLINE
【关键词】 extreme ultraviolet lithography; interference lithography; soft X-ray lithography;
【外文期刊】 Muhammad,Hassaan ; Umama,Saleem ; 等 《Materials (Basel, Switzerland)》 2024年17卷11期 SCIMEDLINE
【关键词】 chemically amplified resists; deep ultraviolet lithography; dry film photoresist;
【外文期刊】 Kahraman,Keskinbora ; Umut Tunca,Sanli ; 等 《Beilstein journal of nanotechnology》 2018年9卷 2049-2056页
【关键词】 Fresnel zone plate; extreme ultraviolet (EUV) radiation; focused ion beam (FIB);
【外文期刊】 Gyo Wun,Kim ; Won Jun,Chang ; 等 《Nanotechnology》 2021年33卷9期 SCIMEDLINE
【关键词】 critical dimension (CD); damage; extreme ultraviolet (EUV) lithography;
【外文期刊】 Jake Dudley,Mehew ; Marina Y,Timmermans ; 等 《ACS applied materials & interfaces》 SCIMEDLINECA
【关键词】 Raman thermometry; carbon nanotubes; extreme ultraviolet;
【外文期刊】 Sang-Kon,Kim ; 《Materials (Basel, Switzerland)》 2023年16卷9期 SCIMEDLINE
【关键词】 EUV lithography; EUV mask; EUV pellicle;
加载中...
